AR ▾
SNAPE REP RT الصفحة الأولى ←
يتطورالحوسبة09 نوفمبر، 07:50 ص UTC

سامسونغ وإس كيه هاينكس تتسابقان على أدوات EUV مع تحذير ASML من نقص في 2027–2028

ASML extreme ultraviolet lithography system
ASML via DIGITIMES

تفيد DIGITIMES بأن المورّد الهولندي يقول إن طاقته المخططة ستقصر عن طلب العملاء في 2027 و2028؛ وأحجام طلبات شركتي الذاكرة غير معلنة.

اقرأ في DIGITIMES مشاركة

لماذا يهم

تأتي آلات الطباعة الحجرية EUV من مورّد واحد هو ASML، لذا فإن تحذيره من أن طاقته المخططة ستقصر عن الطلب في 2027 و2028 يضع سقفاً لسرعة نمو إنتاج الرقائق المتقدمة. وبالنسبة لسامسونغ وإس كيه هاينكس، تتحكم هذه الأدوات في الجيل التالي من DRAM، بما فيها الذاكرة عالية النطاق التي تعتمد عليها مسرّعات الذكاء الاصطناعي. ونقص الذاكرة يعيد بالفعل تشكيل خطط القطاع. يُرتقب ما ستعلنه ASML عن التسليمات وأي مراجعة لإنفاق الشركتين الكوريتين.

حقائق رئيسية

  • ASML تحذر من نقص الطاقة في 2027 و2028
  • سامسونغ وإس كيه هاينكس تتنافسان على أدوات EUV
  • ASML المورّد الوحيد لـEUV
  • أحجام الطلبات غير معلنة

المصادر

المزيد عن الحوسبة
المزيد من Snape Reportالصفحة الأولى ←