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続報計算資源11月09日 07:50 UTC

ASMLが2027〜28年の供給不足を警告、サムスンとSKハイニックスがEUV装置確保を競う

ASML extreme ultraviolet lithography system
ASML via DIGITIMES

DIGITIMESによると、オランダの同社は計画能力が2027年と2028年の需要を下回るとしている。両メモリー大手の発注量は非公表。

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なぜ重要か

EUV露光装置の供給元はASML1社のみで、2027年と2028年に計画能力が需要を下回るとの警告は、先端半導体の増産ペースに上限を課す。サムスンとSKハイニックスにとって、この装置はAIアクセラレーターが頼る広帯域メモリーを含む次世代DRAMの鍵となる。メモリー不足はすでに業界全体の計画を変えつつある。ASMLの納入見通しと韓国2社の設備投資見直しが焦点だ。

要点

  • ASMLは2027年と2028年に能力不足と警告
  • サムスンとSKハイニックスがEUV装置を争奪
  • EUVの供給元はASMLのみ
  • 発注量は非公表

出典

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